某半导体企业高纯铟靶材应用案例

项目背景

随着半导体行业向更先进制程节点迈进，对高纯溅射靶材的需求日益增长。某国内领先半导体制造企业为实现14nm及以下制程的工艺突破，需要稳定供应5N级高纯铟靶材。

解决方案

我们凭借在高纯铟材料领域的技术积累，为该客户提供了定制化的高纯铟靶材解决方案：

• 纯度达到5N（99.999%），金属杂质总量控制在10ppm以下
• 密度达到理论密度的98%以上，确保溅射均匀性
• 提供多种规格尺寸，适配客户现有设备

实施效果

经过6个月的联合验证，产品完全满足客户工艺要求，良品率提升12%，现已成为该客户的长期战略合作供应商。